Esse site utiliza cookies
Descrição
A presente invenção apresenta o desenvolvimento de um equipamento de baixo custo para deposição e obtenção materiais em forma de filmes finos e ultrafinos de dimensões nanométricas e com características nanoestruturais, pelo método de spin-coating. O grande interesse deve-se à potencialidade de aplicação desses materiais na indústria eletroeletrônica, para o desenvolvimento de tecnologia de alta integração, com a miniaturização de seus componentes, usando os materiais obtidos pela técnica de spin-coating. Além dos aspectos tecnológicos, firma-se ainda como aspecto relevante, a necessidade de suprir uma lacuna na pesquisa brasileira com o desenvolvimento de tecnologias de baixo custo para produzir materiais em forme de filmes finos e ultrafinos de excelente qualidade.
Ficha Técnica
Titular: |
|
Inventores: | |
Status: | Depositada |
Data da Publicação: | 01/12/2020 |
Data do Depósito: | 21/05/2019 |
Acesso Rápido: |
Como citar
MLA | |
NBR 6023 (ABNT) | |
APA |